В конце прошлого года Минпромторг выделил 5,7 млрд рублей на разработку отечественных литографических сканеров.

Мало того, что эти деньги успешно распилят, как было например с оборудованием купленным у АМД в Дрездене.2

Печаль в том, что заложенные в разработку проектный нормы относятся к прошлому веку и к моменту запланированного начала выпуска этих степперов, технормам 350нм исполнится более ТРИДЦАТИ ЛЕТ. В микроэлектронике это вечность.

В Зеленоградском нанотехнологическом центре (ЗНТЦ) началась разработка оборудования для фотолитографии. Два конкурса Минпромторга на создание установок для печати микросхем на кремниевых пластинах прошли осенью 2021 года: один — на разработку фотолитографа с уровнем топологии до 350 нм, второй — до 130 нм. В конце 2026 года планируется запуск серийного производства полностью отечественных фотолитографических установок.

А вот что такое технормы 350нм.

Кто-то хоть в руках их держал или комп у кого-нибудь дома на таких чипах работает?

350 нм — техпроцесс, соответствующий уровню технологии, достигнутому в 1995-97 годах ведущими компаниями - производителями микросхем, такими как Intel, IBM, и TSMC. Соответствует линейному разрешению литографического оборудования, примерно равному 0,35 мкм.
Примеры чипов.
AMD Am5x86 1995г.
AMD K5 1996г.
AMD K6 (Model 6) 1997г.
Intel Pentium MMX (P55)
Intel Pentium Pro
Pentium II (Klamath)